大家一般是否都依據(jù)如下公式計算反射電壓和占空比.
For=N*(Vout+Vd)
D=For/(For+Vdcmin)
但經(jīng)過驗證測試,發(fā)現(xiàn)實測的占空比小于計算的占空比;
實測的反射電壓大于計算的反射電壓.(實測反射電壓算法為Vds-Vdc-漏感產(chǎn)生的尖峰電壓)
請問是不是這兩個公式還有一些其他參數(shù)沒有考慮進(jìn)去?
大家一般是否都依據(jù)如下公式計算反射電壓和占空比.
For=N*(Vout+Vd)
D=For/(For+Vdcmin)
但經(jīng)過驗證測試,發(fā)現(xiàn)實測的占空比小于計算的占空比;
實測的反射電壓大于計算的反射電壓.(實測反射電壓算法為Vds-Vdc-漏感產(chǎn)生的尖峰電壓)
請問是不是這兩個公式還有一些其他參數(shù)沒有考慮進(jìn)去?
但我從公式推導(dǎo)和實際對比測試,卻發(fā)現(xiàn)是占空比小的效率高呢.
如占空比小,其匝數(shù)比就小.匝比小,相對來說變壓器的漏感就小,漏感小后,MOS管RCD吸收電路和肖特基RC吸收電路的損耗相對來說就要小.
同時,占空比小,MOS管的Vds電壓低,有利于MOS管的成本.肖特基的峰值電流和有效值電流相對較小.這就明顯的降低了肖特基的損耗. 電路的損耗主要來自于變壓器;MOS管,肖特基和吸收電路.從以上分析,占空比小對MOS管,肖特基和吸收電路都有利.
對于反激電路來說,占空比大效率較高的說法,是怎么得出的呢?有沒有較詳細(xì)的解說,這個問題一直困擾著我.
這個問題要詳細(xì)分析的話,比較復(fù)雜,要假設(shè)的量實在太多
但從峰值電流這個角度分析,D大的話,效率確實要高,而且實際測試也是這樣的