
在我們心中,似乎耐高壓、耐高溫,具有高功率的碳化硅(SiC)則更適合于電力電子、新能源汽車等高壓、高溫環(huán)境的應(yīng)用,而在高頻、高效率轉(zhuǎn)換方面性能優(yōu)異的氮化鎵(GaN)更容易在射頻通信、LED照明、激光器等領(lǐng)域得到廣泛關(guān)注。但現(xiàn)在這種格局正在被打破。
相比于碳化硅器件,氮化鎵器件具有更低的成本優(yōu)勢(shì)。Power Integrations(PI)看好氮化鎵的發(fā)展,在最近不到兩年的時(shí)間里,已連續(xù)三次刷新氮化鎵開(kāi)關(guān)的耐壓基準(zhǔn),成功實(shí)現(xiàn)了900V、1250V和最新的1700V的三項(xiàng)全球首創(chuàng)的額定耐壓水平。
此次PI推出的1700V氮化鎵InnoMux?-2 EP是InnoMux?-2系列單級(jí)、獨(dú)立調(diào)整多路輸出離線式電源IC的新成員。該IC采用PI專有的PowiGaN?技術(shù),額定耐壓首次達(dá)到1700V,可實(shí)現(xiàn)在1000VDC母線電壓下超過(guò)90%的轉(zhuǎn)換效率。它支持最多3組恒壓(CV)輸出,每路輸出的調(diào)整精度都可以控制在±1%以內(nèi),采用ZVS操作的1700V PowiGaN?、單級(jí)變換,并且無(wú)需散熱片,相較于傳統(tǒng)的初級(jí)功率開(kāi)關(guān)串聯(lián)疊加的方案,將系統(tǒng)效率進(jìn)一步提升了10%;單級(jí)方案的優(yōu)勢(shì)在于無(wú)需后級(jí)穩(wěn)壓器,將元件數(shù)量進(jìn)一步減少了約50%以上;而高精度的輸出則在電源輸出端無(wú)需假負(fù)載電路,這樣做可以將負(fù)載端可用的待機(jī)功率增加20%。新成員采用F封裝,爬電間距更寬,也非常適合于1700V高電壓環(huán)境下可能遇到的挑戰(zhàn),尤其可以避免類似洗衣機(jī)、空調(diào)等應(yīng)用中的灰塵、潮濕環(huán)境引起的拉弧放電等問(wèn)題。在汽車充電器、太陽(yáng)能逆變器、三相電表和各種工業(yè)電源系統(tǒng)等電源應(yīng)用中,這種新型器件可取代昂貴的碳化硅晶體管。
潛力巨大的1700V InnoMux?-2 IC
據(jù)Yole Group預(yù)測(cè),從2022年到2028年,GaN功率器件市場(chǎng)規(guī)模將從1.849億美元增長(zhǎng)至20.4億美元,復(fù)合年增長(zhǎng)率高達(dá)49%。
從2018年的750V氮化鎵開(kāi)關(guān)開(kāi)始,到2022年的900V氮化鎵開(kāi)關(guān),2023年的1250V氮化鎵開(kāi)關(guān)和2024年的1700V氮化鎵開(kāi)關(guān),PI一直都在積極研發(fā)推出“令人驚艷”的氮化鎵產(chǎn)品。獨(dú)創(chuàng)的PowiGaN?技術(shù)也已廣泛應(yīng)用于PI的眾多產(chǎn)品系列,包括InnoSwitch?IC、HiperPFS?-5功率因數(shù)校正IC以及InnoMux?-2系列單級(jí)多路輸出反激開(kāi)關(guān)IC。
Power Integrations資深技術(shù)培訓(xùn)經(jīng)理閻金光表示,1700V InnoMux?-2的單級(jí)架構(gòu)可以大幅提高多路輸出效率。該架構(gòu)采用零電壓開(kāi)關(guān)(ZVS)技術(shù),無(wú)需依賴后級(jí)穩(wěn)壓電路,即可消除相關(guān)級(jí)聯(lián)的后級(jí)變換而產(chǎn)生的變換損耗。它的輸入電壓可以支持70V到1000V的直流母線電壓范圍,因?yàn)槊總€(gè)輸出都有反饋監(jiān)控,所以能夠精確控制2組或3組CV輸出,在不同輸入電壓及負(fù)載條件下精度均可達(dá)到±1%。同時(shí),通過(guò)單極穩(wěn)壓精度的提升,避免了DC-DC轉(zhuǎn)換和假負(fù)載,從而有效降低待機(jī)功耗,空載輸入功率可達(dá)到50mW以下。
傳統(tǒng)提高電壓的方法是采用750V PowiGaN?+串聯(lián)另一個(gè)功率MOSFET的StackFET(DER-859)架構(gòu),即通過(guò)疊加初級(jí)功率開(kāi)關(guān)來(lái)實(shí)現(xiàn)耐受更高的母線電壓,但是它的效率非常低,比如在母線電壓高達(dá)900V時(shí),效率可能僅為82%。而現(xiàn)在使用1700V PowiGaN?(RDR-1053)的單管方案可以將效率提升至90%以上,也就意味著將損耗和需要耗散的熱量降低44%,達(dá)到了與750V PowiGaN?器件相同的高效率。
如今大多數(shù)電源都是多路輸出電源,并且一半以上的終端應(yīng)用都是多路輸出敞開(kāi)式電源,單路輸出敞開(kāi)式電源較少。1700V InnoMux?-2 EP憑借其高達(dá)300-1000VDC的寬電壓范圍和1700V的額定耐壓能力,可應(yīng)用于高壓多軌電源應(yīng)用場(chǎng)景,如工業(yè)控制、儀表、電機(jī)控制、儲(chǔ)能、太陽(yáng)能等領(lǐng)域。而對(duì)于輸入電壓高達(dá)308VAC的應(yīng)用場(chǎng)景,如計(jì)算機(jī)CPU、微控制器(MCU)、數(shù)字信號(hào)處理器(DSP)、通信設(shè)備、功能性電源(包括傳動(dòng)裝置、電機(jī)、照明、加熱器、揚(yáng)聲器、家電等)、電視機(jī)、顯示器等,InnoMux?-2 EP系列也提供了650V/725V/750V多種額定耐壓型號(hào)供選擇,以適應(yīng)傳統(tǒng)的消費(fèi)類電子產(chǎn)品的寬壓輸入范圍。
Power Integrations技術(shù)副總裁Radu Barsan表示:“我們快速推進(jìn)氮化鎵產(chǎn)品的研發(fā),在不到兩年的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)了三項(xiàng)全球首創(chuàng)的額定耐壓水平:900V、1250V以及現(xiàn)在的1700V。我們的新型InnoMux-2 IC整合了1700V氮化鎵技術(shù)和其他三項(xiàng)最新創(chuàng)新技術(shù):獨(dú)立、精確的多路輸出調(diào)整技術(shù);FluxLink?次級(jí)側(cè)控制(SSR)數(shù)字隔離通信技術(shù);以及幾乎消除了開(kāi)關(guān)損耗的不需要有源鉗位的零電壓開(kāi)關(guān)(ZVS)技術(shù)。”
Yole Group化合物半導(dǎo)體部門(mén)市場(chǎng)活動(dòng)經(jīng)理Ezgi Dogmus表示:“據(jù)我們所知,1700V額定耐壓大大高于任何其他市售的氮化鎵HEMT(高電子遷移率晶體管)。到2029年底,功率氮化鎵器件市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到20億美元,并將擴(kuò)展到各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域,與碳化硅器件相比,其成本優(yōu)勢(shì)更具吸引力?!?
氮化鎵是目前能同時(shí)實(shí)現(xiàn)高頻、高效率、高功率、耐高壓的代表性材料,目前在消費(fèi)電子充電器、電源適配器等領(lǐng)域具有相當(dāng)強(qiáng)的滲透力。而隨著1700V高氮化鎵開(kāi)關(guān)耐壓基準(zhǔn)的到來(lái),氮化鎵有望逐漸在消費(fèi)電子電源、電動(dòng)汽車OBC、數(shù)據(jù)中心電源、太陽(yáng)能光伏逆變器等領(lǐng)域占據(jù)主力地位。未來(lái),PI也將持續(xù)推出更大電流、更高電壓水平的氮化鎵器件,不斷推動(dòng)高電流、高電壓GaN技術(shù)的商業(yè)化,在實(shí)現(xiàn)節(jié)能減排、產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)中發(fā)揮更加重要的作用。
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